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中国科学院青岛生物能源与过程研究所2024年6至12月政府采购意向

2024-05-15 政府
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  • 2024年05月15日
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正文内容

·公告摘要:

受业主*******委托,招标网于2024年05月15日发布 :中国科学院青岛生物能源与过程研究所2024年6至12月政府采购意向。各有关单位请尽快与采购业主相关联系人联系,及时参与投标等相关工作,以免错失商业机会。

*** 部分为隐藏内容,查看详细信息请

·部分信息内容如下:

中国科学院青岛生物能源与过程研究所2024年6至12月政府采购意向
原子层沉积设备 项目所在采购意向: *********************年*至**月政府采购意向 采购单位: ***************** 采购项目名称: 原子层沉积设备 预算金额: ***.******万元(人民币) 采购品目: A********电化学分析仪器 采购需求概况 : 原子层沉积设备以单原子膜形式逐层镀在基底表面,与普通的化学沉积有相似之处,但在原子层沉积过程中,新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的,每次反应只沉积一层原子。用于先进钙钛矿太阳电池中金属氧化物薄膜SnO*,Al*O*,TiO*等的沉积。 原子层沉积功能: *)设备类型:真空外加热水平横流式镀膜,加热系统在真空室外,反应气体和载气不可以任何方式接触加热器,反应物和吹扫气流在腔室一侧流出,从基片一边水平流经基片后,从腔室另一侧的真空抽气口进入真空泵。 *)载片量及尺寸:***×***mm向下兼容。 *)真空计:配置薄膜真空计+皮拉尼真空计用于真空测量,测量范围*E-* torr-大气压。 *)控制系统:配置高精度PLC+工控机沉积自动控制系统,满足高精度ALD沉积需求图像化的操作界面,实时显示系统各部分运行状态。 原子层沉积主要参数: *)反应区温度:要求在**-*** ℃之间可以均匀成膜,反应温度不得超过*** ℃; *)前驱体源:*路金属源,*路水源,金属源及管路加热温度RT-*** ℃;金属源及水源分别通过*路N*流量计控制流量。 预计采购时间: ****-** 备注:
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
磁控溅射 项目所在采购意向: *********************年*至**月政府采购意向 采购单位: ***************** 采购项目名称: 磁控溅射 预算金额: ***.******万元(人民币) 采购品目: A********真空检测仪器 采购需求概况 : 磁控溅射是物理气相沉积的一种。入射粒子在靶中经历复杂的散射过程,和靶原子碰撞,把部分动量传给靶原子,此靶原子又和其他靶原子碰撞,形成级联过程。在这种级联过程中某些表面附近的靶原子获得向外运动的足够动量,离开靶被溅射出来。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。磁控溅射在高温超导薄膜、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池、记忆合金薄膜研究方面发挥重要作用。 磁控溅射功能: *)真空系统:分子泵+机械泵,带有旁抽系统,开腔不需要停泵,极限真空度小于****-* Pa。 *)流量控制:进气端采用质量流量计+截止阀并通过进气流量控制,排气端采用蝶阀并通过软件控制。 *)基片盘:转速*-**转/分,*-** ℃水冷机制。 *)软件操作:触摸屏+PLC,一键式启动/停止真空,一键式充气开腔,一键式镀膜。 磁控溅射主要参数: *)膜厚均匀性和重复性误差:≤±*%; *)真空室规格:*******mm的基片尺寸; *)靶材尺寸:直径*、*.*、*、*英寸,厚度*-* mm。 预计采购时间: ****-** 备注:
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
激光划线设备 项目所在采购意向: *********************年*至**月政府采购意向 采购单位: ***************** 采购项目名称: 激光划线设备 预算金额: ***.******万元(人民币) 采购品目: A********激光仪器 采购需求概况 : 激光划线设备是采用激光器,主要功能在于对薄膜太阳能电池及组件进行P*,P*,P*激光划刻的设备。适用于各种薄膜太阳能电池P*/P*/P*划线,适用材料:FTO、ITO、Au、Ag、Spiro-OMeTAD、Perovskite、SnO*、C**、PCBM、NiOx等不同材质镀层。在钙钛矿电池中,激光设备是构建其串联回路的主要工艺,包括P*/P*/P*激光划线以及P*激光清边,属于钙钛矿设备中较为刚需的技术之一。其中,P*/P*/P*激光划线——用于分割电池区域,串联电池,增大电压;P*激光清边——利用激光刻蚀技术在边缘清理出*-**mm区域,保证电池层级的一致性。 激光划线设备功能: *)加工载台:主要用于在产品定位、加工过程中,提供支撑、吸附。 *)X/Y/Z轴运动系统:运动轴安装*.*um分辨率的高精度光栅尺,配合读数头进行位置反馈,以保证运动精度;所有运动轴安装机械限位,同时安装Sensor,配合软件实现软件限位,以此保证高速运行下的安全性。 *)影像定位系统:设备配置影像定位系统,用于对产品进行精确的定位,保证切割精度。 *)激光及光学系统:主要用于对产品进行切割。 激光划线设备主要参数: *)划线工艺控制:P*、P*、P*线宽分别为** μm、*** μm、** μm; *)激光器:绿光皮秒和红光纳秒双激光器。 预计采购时间: ****-** 备注:
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
双**狭缝涂布设备 项目所在采购意向: *********************年*至**月政府采购意向 采购单位: ***************** 采购项目名称: 双**狭缝涂布设备 预算金额: ***.******万元(人民币) 采购品目: A********金属喷涂设备 采购需求概况 : 狭缝涂布技术是通过**进行直线运动的过程中,将涂布材料通过供液系统以及高精度供液泵配合,使材料从涂头中挤出并均匀地涂布在基材表面上,从而实现高质量的涂布效果,涂布的基板采用真空卡盘进行吸附,可实现多种材料的精密涂布。狭缝涂布设备以其涂布速度快、涂膜均匀性好、涂布窗口宽、涂液利用率高等特点,广泛应用于胶卷、造纸、和新能源领域,尤其是钙钛矿太阳能电池和锂离子电池极片涂布等。 双**狭缝涂布设备功能: *)平台结构:采用双**双驱动系统,底座采用花岗岩和不锈钢机架,确保平台稳定性和精度。 *)直线运动装置:X轴和Z轴的自动控制和重复定位精度优于*μm,可满足各种精密涂布工艺要求。 *)导轨类型:采用精密直线电机和气浮轴承,运动控制精度高,运行过程平稳无振动,适合于高精度工艺应用。 双**狭缝涂布设备参数: *)基板尺寸:*******mm; *)薄膜均一性误差:≤±*%; *)风刀:含线状出风口可手动调整出风角度。 预计采购时间: ****-** 备注:
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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